Les États-Unis affirment que l'équipement EUV d'ASML est arrivé en Chine — ASML dément

Le département du Commerce américain a informé en privé ASML — l'entreprise néerlandaise qui détient un monopole mondial sur l'équipement avancé de fabrication de puces, essentiel à tout processeur moderne — que l'une de ses machines de lithographie ultraviolette extrême (EUV) aurait pu atteindre la Chine en violation des contrôles à l'exportation. ASML riposte fermement, qualifiant ces allégations de fausses.
Selon Bloomberg, le secrétaire au Commerce Howard Lutnick a soulevé ces allégations lors de réunions avec les dirigeants d'ASML ces dernières semaines. Des hauts responsables de l'administration affirment détenir des preuves que l'entreprise a expédié des composants liés à l'EUV et des équipements de transport vers la Chine, bien qu'ils aient refusé de partager ces preuves avec Bloomberg ou avec ASML elle-même.
Le PDG d'ASML, Christophe Fouquet, a été direct dans son démenti. « Elles sont soit en usage actif chez des clients surveillés, soit démantelées et retournées », a-t-il déclaré. L'entreprise maintient des pare-feux internes stricts : les employés ayant accès à l'EUV sont délibérément séparés de ceux travaillant sur les opérations en Chine, et le personnel basé en Chine n'a aucun accès à la documentation ou aux systèmes EUV.
Les machines de lithographie EUV ne sont pas de simples équipements industriels. Elles sont sans doute la technologie la plus importante stratégiquement dans la chaîne d'approvisionnement mondiale des semi-conducteurs. Chaque machine coûte plus de 200 millions de dollars, nécessite des années de fabrication, et est le seul moyen d'imprimer les motifs de circuits présents dans des puces comme l'Apple A18, le Nvidia Blackwell et les derniers processeurs d'AMD. Il n'existe aucune alternative fonctionnelle — ASML a consacré deux décennies et des milliards au développement de cette technologie, sans concurrence en vue.
Pour cette raison, l'équipement EUV est soumis aux contrôles à l'exportation américains depuis la première administration Trump. La préoccupation est simple : si la Chine acquiert la capacité EUV, elle pourrait produire des puces de pointe de manière indépendante, effaçant potentiellement l'un des principaux avantages stratégiques de l'Occident dans l'IA et l'informatique avancée.
Les allégations américaines restent non vérifiées publiquement. Des responsables de l'administration ont cité des preuves de composants liés à l'EUV et d'équipements de transport arrivant en Chine, mais ils n'ont pas produit de scanner EUV complet en fonctionnement sur le sol chinois. ASML a également de puissantes incitations financières à se conformer — environ 20 % des revenus 2026 de l'entreprise dépendent du maintien de ses licences d'exportation pour les équipements DUV de génération plus ancienne que la Chine est encore autorisée à acheter. Violer les contrôles EUV mettrait l'ensemble de cette source de revenus en péril.
Le Congrès s'apprête également à restreindre davantage les ventes d'ASML en Chine. Un projet de loi avançant au sein de la législature interdirait toutes les expéditions de DUV vers la Chine — affectant les 20 % de revenus qu'ASML tire actuellement de ses ventes légales dans le pays. L'entreprise fait activement du lobbying contre cette mesure. Le statut d'ASML en tant que société cotée la plus valorisée d'Europe, avec une capitalisation boursière d'environ 700 milliards de dollars, lui confère un levier diplomatique inhabituel.
Pour l'instant, le différend reste non résolu. Les responsables américains détiennent des preuves qu'ils ne montreront pas publiquement. ASML affirme que chaque machine est comptabilisée. Comme le rapportent Bloomberg et TechCrunch, jusqu'à ce qu'une partie produise une preuve vérifiable, cette confrontation se situe inconfortablement entre une préoccupation légitime de sécurité nationale et une éventuelle campagne de pression qui pourrait remodeler la dynamique mondiale du marché des puces.
Originally reported by TechCrunch / Bloomberg. Read the original article for additional details.
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